APPLICATION / PHARMA
制药工艺
围绕质量风险、用气点分级、系统确认与持续监测建立可追溯的后处理设计。
08独立工况 / APPLICATION GUIDES
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制药设备控制空气分级
控制空气应按使用点及排气路径评估,关键执行机构还要考虑停气后的状态。
固体制剂设备辅助工艺气
制粒、压片或包衣设备的各路用气应逐项确认接触关系与质量要求。
药用容器吹扫与清洁气
容器吹扫的空气质量需与后续清洁、灭菌及灌装流程一起确定。
洁净区压缩空气末端处理
洁净区域的公用气体需要独立确认,室内环境指标不能替代使用点气质检测。
低露点制药工艺气系统
低露点目标需要工艺依据,并通过匹配量程的仪表与合理采样进行确认。
制药空气系统取样点规划
取样点应反映实际使用风险与管路差异,数量和位置不能只按设备台数决定。
制药连续生产的后处理检修
备用设计应维持所需气质并便于确认,不能把未经处理的旁通当作正常备用。
制药公用气体处理节能评估
节能比较应在同一质量边界内进行,露点控制与再生优化需纳入变更管理。
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